为何四探针法被视为电阻率测量的“金标准”?

一、 传统二探针法的测量困境与系统误差来源

根据欧姆定律的宏观定义,对一段均匀导体电阻的测量,可通过施加已知电流 并测量其两端电压降 来实现,二探针法正是基于此原理

然而,该模型忽略了实际测量回路中的寄生电阻,主要包括:

1.接触电阻 :源于金属探针与材料表面之间非理想的欧姆接触。
2.引线电阻 :连接导线自身的电阻。

当待测样品电阻 远小于寄生电阻之和时(例如在测量半导体晶圆、导电薄膜等低阻值时),二探针法测得的电阻值将主要由寄生电阻主导,导致巨大的系统误差,无法反映材料的真实特性。

二、 四探针法的核心原理:测-源分离与误差消除机制

四探针法通过精巧的探针排布与测量电路设计,成功地解决了上述难题。其典型配置如下图所示

  • 无损或微损检测:探针与样品为点接触,对样品损伤极小,尤其适用于对完整性要求高的半导体晶圆和贵重薄膜材料。
  • 宽广的测量范围:通过调整电流量级,可精确测量从金属到半绝缘体等多个数量级的电阻率。
  • 对样品几何形状适应性好:对于块状、片状材料,在引入适当的几何修正因子后,均可获得准确结果。
  • 高重复性与可靠性:方法排除了主要系统误差,测量结果稳定,为科学研究和工业质量控制提供了可靠依据。
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